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Serie JUTAIHPM® Lite LK: materiali avanzati a basso dielettrico per applicazioni ad alta frequenza
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Serie JUTAIHPM® Lite LK: materiali avanzati a basso dielettrico per applicazioni ad alta frequenza

Visualizzazioni: 0     Autore: Editor del sito Orario di pubblicazione: 2026-09-10 Origine: Sito

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Dalle piattaforme di test ATE e dai substrati dei pacchetti ai connettori ad alta velocità e alle antenne 5G, i segnali elettrici passano attraverso materiali dielettrici lungo ogni segmento del percorso di trasmissione.

Con l’aumento delle frequenze operative, i materiali non possono più servire solo come supporto strutturale e isolamento elettrico. Dk influisce sulla consistenza dell'impedenza, mentre Df contribuisce alla perdita dielettrica. L'assorbimento di umidità, la deformazione termica e la deriva dimensionale possono ridurre ulteriormente i margini di progettazione.

Man mano che la velocità dei dati avanza da 28G NRZ a 112G PAM4 e le frequenze operative si estendono da 6 GHz alla banda delle onde millimetriche di 77 GHz, i materiali devono offrire allo stesso tempo basse perdite, stabilità igrotermica, resistenza al calore e modellabilità di precisione.

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Nella progettazione di interconnessioni ad alta velocità, un singolo valore dielettrico non è mai sufficiente. I materiali devono inoltre mantenere la consistenza a lungo termine in condizioni di umidità, calore e requisiti dimensionali rigorosi.

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La serie LK comprende quattro gradi sviluppati in base a prestazioni dielettriche, resistenza al calore, densità e requisiti strutturali, fornendo un chiaro punto di partenza per la selezione preliminare dei materiali.

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La bassa perdita è il fondamento della trasmissione del segnale ad alta velocità. Nei componenti reali, tuttavia, i materiali devono anche resistere ad ambienti di calore umido, vincoli di peso, diversi requisiti di temperatura e esigenze di lavorazione di pareti sottili, microfori e geometrie complesse.

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I quattro gradi non sono semplicemente organizzati come livelli di prestazione superiori e inferiori. Ciascun grado è progettato in base a una diversa combinazione di requisiti applicativi.

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TEST DEL CHIP

Prese di test, schede sonda e prese di burn-in devono combinare basse perdite, precisione di allineamento e prestazioni affidabili a temperature elevate.

WAFER E SUPPORTI

I vassoi per circuiti integrati, i supporti per wafer e i componenti per la movimentazione automatizzata beneficiano di struttura leggera, pulizia, basso assorbimento di umidità e stabilità dimensionale.

INTERCONNESSIONI AD ALTA VELOCITÀ

I connettori PAM4 56G/112G e le interfacce miniaturizzate pongono requisiti combinati in termini di Dk, Df, stampaggio a parete sottile e resistenza al calore.

ALTA FREQUENZA E INDUSTRIALE

Le applicazioni includono il 5G e le comunicazioni satellitari, nonché componenti industriali che richiedono resistenza ai comuni mezzi di pulizia. La selezione del grado finale dovrebbe essere convalidata nelle condizioni operative effettive.

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Il valore di un materiale di interconnessione ad alta frequenza non è definito da un numero inferiore. Deriva da prestazioni costanti lungo tutto il percorso del segnale: controllo di Dk e Df e allo stesso tempo gestione dell'assorbimento di umidità, resistenza al calore, precisione dimensionale, proprietà meccaniche e compatibilità del processo.

LK-01, LK-02, LK-03 e LK-04 forniscono quattro direzioni di selezione, aiutando i progettisti a bilanciare basse perdite, bassa dilatazione termica, rigidità strutturale e prestazioni di carico ad alta temperatura in base ai requisiti dell'applicazione reale.

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