Resistência ao calor até 240°C, adequada para processos de vácuo e limpeza.
A superfície lisa minimiza o risco de contaminação por partículas.
Alta precisão de guiamento e excelente resistência ao desgaste, ideal para operação contínua.
Personalizável com ranhuras usinadas, batentes, chanfros e furos de montagem.
Projetado para orientar os requisitos de componentes em sistemas de transporte e alinhamento.
Instalado em equipamento de manuseio de wafer para orientação e posicionamento precisos.
Usado em estruturas de carga/descarga para ajudar a limitar o desalinhamento.
Melhora a estabilidade da peça quando integrada com sistemas de visão ou medição.
Serve como peças sobressalentes, apoiando a substituição de pequenos volumes ou necessidades de P&D.